「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」得獎名單

「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」由文化部指導,國立臺灣美術館主辦,歷經41年間不懈耕耘,宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展,是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一,迄今已是第21屆。

以下公告本屆得獎名單:

序號 獎項 報名編號 作者姓名 作品名稱 國籍
1 金牌獎 21-0376 安河内裕也 Hiroya YASUKOCHI After that'22 - prisoner 9 日本
2 銀牌獎 21-0756 Patipon SUPANPONG thig and traces in memory 11 泰國
3 銅牌獎 21-0065 武藤正悟 Shogo MUTO 結界 日本
4 評審團特別獎 21-0037 kamruzzaman KAMRUZZAMAN survivour 孟加拉
5 評審團特別獎 21-0255 Krzysztof TOMALSKI Inertia State 波蘭
6 優選獎 21-0244 Tomasz WINIARSKI Perpetuum mobile: CXII 波蘭
7 優選獎 21-0266 Wieslaw HALADAJ Invisible path 波蘭
8 優選獎 21-0299 玉分昭光 Akimitsu TAMAWAKE Fire and Flowers 日本
9 優選獎 21-0747 Fernando CARBALLA VILLANUEVA Metaverse 西班牙
10 優選獎 21-0804 陳憶誠 Yi-Cheng CHEN 連續勞動 1-3② Continuous work 1-3 ② 台灣
11 佳作 21-0109 田島直樹 Naoki TAJIMA 飛行計画Ⅲ 日本
12 佳作 21-0283 Yael BROTMAN Things We Carry 1 加拿大
13 佳作 21-0432 Hernandez Castillo VÍCTOR MANUEL ARANDO HUELLAS 墨西哥
14 佳作 21-0542 Jolanta RUDZKA HABISIAK TOWARDS INFINITY 波蘭
15 佳作 21-0563 椿一朗 Ichirow TSUBAKI Time Drops 日本

本展所有得獎及入選作品,將於2024/07/27-10/13於國立臺灣美術館展出。