「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」由文化部指導，國立臺灣美術館主辦，歷經41年間不懈耕耘，宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展，是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一，迄今已是第21屆。

以下公告本屆得獎名單：

序號獎項報名編號作者姓名作品名稱國籍1金牌獎21-0376安河内裕也 Hiroya YASUKOCHIAfter that'22 - prisoner 9日本2銀牌獎21-0756Patipon SUPANPONGthig and traces in memory 11泰國3銅牌獎21-0065武藤正悟 Shogo MUTO結界日本4評審團特別獎21-0037kamruzzaman KAMRUZZAMANsurvivour孟加拉5評審團特別獎21-0255Krzysztof TOMALSKIInertia State波蘭6優選獎21-0244Tomasz WINIARSKIPerpetuum mobile: CXII波蘭7優選獎21-0266Wieslaw HALADAJInvisible path波蘭8優選獎21-0299玉分昭光 Akimitsu TAMAWAKEFire and Flowers日本9優選獎21-0747Fernando CARBALLA VILLANUEVAMetaverse西班牙10優選獎21-0804陳憶誠 Yi-Cheng CHEN連續勞動 1-3② Continuous work 1-3 ②台灣11佳作21-0109田島直樹 Naoki TAJIMA飛行計画Ⅲ日本12佳作21-0283Yael BROTMANThings We Carry 1加拿大13佳作21-0432Hernandez Castillo VÍCTOR MANUELARANDO HUELLAS墨西哥14佳作21-0542Jolanta RUDZKA HABISIAKTOWARDS INFINITY波蘭15佳作21-0563椿一朗 Ichirow TSUBAKITime Drops日本

本展所有得獎及入選作品，將於2024/07/27-10/13於國立臺灣美術館展出。