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中華民國第十九屆國際版畫雙年展

International Biennial Print Exhibit: 2020 R.O.C.
中華民國第十九屆國際版畫雙年展

優選獎

作品名稱:〈景觀 LVII 〉

美國

伊凡.桑莫

  • 作者:伊凡.桑莫
  • 作品名稱:〈景觀 LVII 〉
  • 國籍:美國
  • 創作自述:
    我大部分的作品都描繪景觀,且通常包括建築與幾何圖形,這些圖形反映了時間的行進以及無解的歷史。與此相關的是地點與事件的回憶,以及時間流逝時所帶來的轉變,不僅是架構與景觀上的變動,還有文明對這些轉變的應用與其中的關連與離棄。

    這些都是有關架構如何生成、目的性,以及持續影響土地與架構的 無解叩問。我喜歡創造被遺棄,並且帶有一股美麗、神秘、不安氣息的作品,這樣的美學比僅只是賞心悅目的景觀繁複且有趣得多。
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