跳到主要內容區

中華民國第十九屆國際版畫雙年展

International Biennial Print Exhibit: 2020 R.O.C.
中華民國第十九屆國際版畫雙年展

評審團特別獎

作品名稱:〈未來〉

斯洛伐克

納特 米蘭

  • 作者:納特 米蘭
  • 作品名稱:〈未來〉
  • 國籍:斯洛伐克
  • 創作自述:
    我運用充滿夢境與想像的符號,在虛構的敘事背景下,創作出具有象徵性動機的作品。我修改目前網路世界文化的元素,創作出奇特的藝術作品,並表現出超現實概念的嘲諷風格的懷疑主義。
回頂端